吕光泉　拓荆科技董事长

    对拓荆科技而言，登陆科创板是公司发展的“加速器”。上市前，我们作为半导体薄膜沉积设备领域的开拓者，面临研发投入大、资金需求紧张的挑战；上市后，借助科创板平台与资本市场支持，公司突破了发展瓶颈，驶入成长快车道。上市三年以来，我们将首发上市募集资金精准投向研发和产能建设，持续攻克关键核心技术，在PECVD、ALD、Gapfilll等核心产品上实现技术迭代和性能跃升，量产规模持续扩大，在先进存储、逻辑等多领域实现广泛应用，进而助力国内半导体产业链快速发展。

    期待未来科创板继续深化改革，进一步优化对科技企业的估值定价机制，拓宽长期资金入市渠道，让真正的硬科技企业获得更精准的资本支持；加速培育具有行业竞争力的科技领军企业。